COMPARAÇÃO DAS CARACTERÍSTICAS ELÉTRICAS DE CÉLULAS SOLARES N+NP+ COM FILMES ANTIRREFLEXO DE TiO2 DEPOSITADOS POR EVAPORAÇÃO E POR DEPOSIÇÃO QUÍMICA EM FASE VAPOR

Autores

  • José Cristiano Mengue Model Pontifícia Universidade Católica do Rio Grande do Sul
  • Adriano Moehlecke Pontifícia Universidade Católica do Rio Grande do Sul
  • Izete Zanesco Pontifícia Universidade Católica do Rio Grande do Sul
  • Moussa Ly Pontifícia Universidade Católica do Rio Grande do Sul
  • Sérgio Boscato Garcia Pontifícia Universidade Católica do Rio Grande do Sul
  • Jéssica de Aquino Pontifícia Universidade Católica do Rio Grande do Sul
  • Thais Crestani Pontifícia Universidade Católica do Rio Grande do Sul
  • Ricardo Augusto Zanotto Razera Pontifícia Universidade Católica do Rio Grande do Sul

DOI:

https://doi.org/10.59627/cbens.2016.1277

Palavras-chave:

Filmes antirreflexo, Dióxido de titânio, Células solares de silício tipo n

Resumo

A dopagem com boro das lâminas de silício para produção de células solares foi estabelecida como padrão nos anos 60, como resultado do uso inicial destes dispositivos em aplicações espaciais. No entanto, demonstrou-se que a dopagem com boro em todo o substrato pode produzir problemas de degradação das características elétricas das células solares de uso terrestre. Além disto, nas lâminas de silício cristalino tipo n, dopadas com fósforo, observam-se maiores tempo de vida dos portadores de carga minoritários, proporcionando a fabricação de células solares mais eficientes. O objetivo deste trabalho foi comparar as características elétricas de células solares n+np+ com filme antirreflexo de óxido de titânio obtido por evaporação em alto vácuo com feixe de elétrons (E-beam) e por deposição química em fase vapor sob pressão atmosférica (APCVD). As células solares com filme AR depositado por APCVD obtiveram eficiência média maior, devido a um maior fator de forma, proporcionado por uma perfuração eficaz deste filme pela pasta metálica de prata. As células solares mais eficientes apresentaram eficiências de 14,7 % para ambos os processos de deposição utilizados.

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Biografia do Autor

José Cristiano Mengue Model, Pontifícia Universidade Católica do Rio Grande do Sul

Faculdade de Física,
Núcleo de Tecnologia em Energia Solar

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Publicado

2016-12-13

Como Citar

Model, J. C. M., Moehlecke, A., Zanesco, I., Ly, M., Garcia, S. B., Aquino, J. de, Crestani, T., & Razera, R. A. Z. (2016). COMPARAÇÃO DAS CARACTERÍSTICAS ELÉTRICAS DE CÉLULAS SOLARES N+NP+ COM FILMES ANTIRREFLEXO DE TiO2 DEPOSITADOS POR EVAPORAÇÃO E POR DEPOSIÇÃO QUÍMICA EM FASE VAPOR. Anais Congresso Brasileiro De Energia Solar - CBENS, 1–7. https://doi.org/10.59627/cbens.2016.1277

Edição

Seção

Anais