CARACTERIZAÇÃO DE ZnO ELETRODEPOSITADO PARA APLICAÇÃO EM CÉLULAS FOTOVOLTAICAS
DOI:
https://doi.org/10.59627/cbens.2012.2000Palavras-chave:
óxido de zinco, eletrodeposição, células fotovoltaicasResumo
Este trabalho tem como objetivo contribuir para a elucidação e caracterização do processo de produção de ZnO eletrodepositado sobre substrato de cobre com a finalidade de aplicação em dispositivos fotovoltaícos. Para este efeito, os métodos eletroquímicos, associadas às técnicas de caracterização de superfície, tais como, difração de raios- X (DR-X), microscopia eletrônica de varredura(MEV) e microscopia de força atômica (MFA), foram conduzidas. A deposição ocorre no intervalo de potencial de -0,7 a -1,1 V. A taxa de deposição máxima ocorre no potencial de - 1,05 V. A reação de deposição do zinco metálico ocorre em potenciais acima de -1,1 V, simultaneamente a eletrodeposição de ZnO. As curvas potenciostáticas indicam que filmes muito finos, com espessura em torno de 140 nm (40 min, aproximadamente) são obtidos. O filme eletrodepositado apresenta características semicondutoras, σ ≅ 10−3 ( Ω .m)−1. As imagens micrográficas revelam que o filme de ZnO eletrodepositado é formado por estruturas lamelares, semelhantes a plaquetas, e que este tipo de morfologia não depende do potencial aplicado.Foi verificado que o filme não apresenta picos de difração quando sintetizado a temperatura ambiente, indicando ser amorfo ou microcristalino.
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