COMPARAÇÃO DE FILMES ANTIRREFLEXO DE TiO 2 DEPOSITADOS POR DIFERENTES TÉCNICAS PARA CÉLULAS SOLARES DE SILÍCIO
DOI:
https://doi.org/10.59627/cbens.2014.2117Palavras-chave:
Filmes antirreflexo, Dióxido de titânio, Células solares de silícioResumo
Neste trabalho foram comparados os filmes antirreflexo de dióxido de titânio depositados por duas técnicas para fabricação de células solares p+ nn+ . Este tipo de célula solar é mais estável em longo prazo em relação às células n+ pp+ e permite a obtenção de maiores eficiências. Os filmes de TiO2 foram produzidos por evaporação em alto vácuo com canhão de elétrons e por deposição química em fase vapor a pressão atmosférica. Os filmes foram depositados em lâminas de silício texturadas e caracterizados pela medida da refletância espectral e pela refletância média ponderada. Células solares com estes filmes foram fabricadas e ca racterizadas. Os filmes apresentaram refletância média ponderada bastante baixa, da ordem de 2,6 %, não interessando a técnica utilizada. Observou-se que um processo térmico realizado a 840 °C em forno de esteira provocou um aumento da refletância média ponderada da ordem de 0,6 % absolutos. As células solares apresentaram eficiências similares, mas aquelas com filme depositado por evaporação alcançaram maior densidade de corrente de curto-circuito.
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