CARACTERIZAÇÃO DE FILMES FINOS DE Ni/ NiO DEPOSITADOS POR MAGNETRON SPUTTERING PARA APLICAÇÕES EM COLETORES SOLARES

Resumo

Neste presente trabalho, filmes finos de Ni/NiO em substrato de alumínio foram produzidos em câmara de vácuo por deposição catódica (“ magnetron sputtering”). A pressão da câmara foi ajustada em 2x10-2mbar e a potência a 600W. O tempo para deposição de Ni variou de 10 a 60 minutos e o tempo para deposição de NiO de 10 a 90 minutos. A mistura de gases constituiu de Argônio (gás inerte) e Oxigênio (gás ativo). A percentagem em volume de Oxi- gênio variou de 20 a 50%. Os recobrimentos foram realizados em camadas dúplex, constituindo a primeira camada de Ni e a segunda, a camada de anti-reflexão (AR) de Ni/NiO . A identificação e a quantificação das fases foram realizadas por Difração de Raios X (DRX). A microestrutura das amostras foi examinada ao Microscópio Eletrônico de Varredura (MEV). A absortância solar foi calculada a partir das medidas de refletância por espectroscopia na região do visível e infravermelho próximo. Em algumas amostras atingiram-se picos de 99% de absorção de calor. A fim se obter filmes com maior absorção de calor para aplicações em coletores solares, procurou-se relacionar a composição química, e a microestrutura com as propriedades ópticas desses materiais.