PREPARAÇÃO DE REVESTIMENTO ANTIRREFLEXIVO À BASE DE SÍLICA PELO PROCESSO SOL-GEL PARA APLICAÇÃO EM USINAS HELIOTÉRMICAS
DOI:
https://doi.org/10.59627/cbens.2016.1914Palavras-chave:
Revestimento Antirreflexivo, Sol-gel, Usina HeliotérmicaResumo
Este trabalho trata da deposição, através do método sol-gel, de uma fina camada de revestimento antirreflexivo constituído de sílica sobre a superfície de um substrato vítreo. Foram observados os efeitos do tratamento térmico e velocidade de deposição do filme na refletância das amostras. Os filmes foram confeccionados utilizando a técnica do dip-coating em diferentes velocidades, e passaram por um tratamento térmico à 425 °C durante 30 minutos. Na etapa de caracterização foram feitos ensaios de refletância difusa na região do ultravioleta-visível, microscopia eletrônica de varredura e medições do ângulo de contato da água sobre a superfície dos filmes. As características mecânicas dos filmes foram avaliadas por teste de adesão da fita e dureza a lápis. O valor mínimo de refletância difusa obtido para o filme antirreflexivo foi de 2,72%, enquanto que o substrato vítreo apresentou um valor de refletância difusa igual a 3,86%. Os filmes se apresentam uniformes isentos de trincas, conforme observado na microscopia eletrônica de varredura. Medições do ângulo de contato mostraram que, para todos os filmes, houve o molhamento dos filmes pela água, caracterizando-os como hidrofílicos. Os filmes apresentaram uma adesão de 4B e dureza de 3H.
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